微波無(wú)極紫外設(shè)備

JYM-3000紫外光清洗設(shè)備

光清洗設(shè)備
材料表面清洗
材料表面改性
UV氧化反應(yīng)
產(chǎn)品描述：使用短波長(zhǎng)紫外線UV表面清洗、表面改性技術(shù)，用清潔高能紫外線光源，對(duì)材料進(jìn)行處理后可得到極其清潔的表面和強(qiáng)力的表面接著性。改性的基本的反應(yīng)就是UV引起的氧化反應(yīng)。UV照射固體表面后，表面的污染物被氧化，而后被分解成CO2和H2O等易揮發(fā)性物質(zhì)，最終揮發(fā)消失。并且表面形成有利表面接著的如OH，COO，CO，COOH等親水性原子團(tuán)，被改性的表面接著性得到飛躍性地提高。
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產(chǎn)品簡(jiǎn)介：

一般工業(yè)或高科技領(lǐng)域使用的一些材料具有非常高的性能，對(duì)環(huán)境也非常友好，但這些材料的接著性、印涂性等一般都非常差。本公司提供的短波長(zhǎng)紫外線（UV）表面清洗、表面改性技術(shù)，用清潔的高能紫外線光源，對(duì)上述材料進(jìn)行處理后可得到極其清潔的表面和強(qiáng)力的表面接著性。
改性的基本的反應(yīng)就是UV引起的氧化反應(yīng)。UV照射固體表面后，表面的污染物被氧化，而后被分解成CO2和H2O等易揮發(fā)性物質(zhì)，最終揮發(fā)消失。并且表面形成有利表面接著的如OH，COO，CO，COOH等親水性原子團(tuán)，被改性的表面接著性得到飛躍性地提高。
UV光源技術(shù)的進(jìn)步保證了UV/O3表面改性技術(shù)充分發(fā)揮其突出的優(yōu)越性。UV/O3表面改性技術(shù)因能處理得到極高的清潔度與表面接著性，在固體表面處理中越來(lái)越得到廣泛的應(yīng)用。
紫外光清洗的特點(diǎn)：
○大氣中處理，簡(jiǎn)單、方便、環(huán)保，無(wú)二次污染，無(wú)需加熱、藥液等處理。
○清潔度極高，單分子層以下，可以得到從前的處理方法難以想象的接著性。
○國(guó)內(nèi)獨(dú)有超高出力短波長(zhǎng)紫外線光源，僅需短時(shí)間（秒單位）照射，便能發(fā)揮強(qiáng)大的處理能力，顯著提高生產(chǎn)效率。
○對(duì)絕大多數(shù)塑料成型品照射有效，適用性廣。
○可避免大量消耗藥液、熱能等，運(yùn)行成本低。

紫外光清洗的技術(shù)應(yīng)用范圍：
主要在液晶顯示器件、半導(dǎo)體硅晶片、集成電路、高精度印制電路板、光學(xué)器件、石英晶體、密封技術(shù)、帶氧化膜的金屬材料等生產(chǎn)過(guò)程中采用光清洗方法最為合適。
主要材料：ITO玻璃、光學(xué)玻璃、鉻板、掩膜板、拋光石英晶體、硅晶片和帶有氧化膜的金屬等進(jìn)行精密清洗處理。
可以去除污垢：有機(jī)性污垢、人體皮脂、化妝品油脂、樹(shù)脂添加劑及聚酰亞胺、石蠟、松香、潤(rùn)滑油、殘余的光刻膠等。
此UV光源在LCD工藝中又具有UV改質(zhì)(紫外光表面質(zhì)變)的特點(diǎn)，目前在液晶顯示器STN的生產(chǎn)過(guò)程中，主要是用在膜處理技術(shù)上，對(duì)于改善膜與膜之間的密接是非常有效的，如ITO膜與感光膠膜層，TOP涂層與PI涂層等等。另在研究部門(mén)又可用來(lái)UV改性塑料材料產(chǎn)品，用于納米技術(shù)研究，產(chǎn)品經(jīng)此UV光照射發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，使產(chǎn)品表面性質(zhì)改變。